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超聲波清洗機的單晶硅晶片方法及裝置簡析

文章作者:zhuobo 發布時間:2021-03-03 17:27:27 瀏覽次數:0

  當今精細部件中使用的零件要求高清潔度。超聲波技術提供了一種滿足精細清潔需求的有效方法。復雜的超聲波清洗技術通常用于要求最苛刻的應用中,以從磁盤驅動器,航空電子,醫療設備和許多其他關鍵行業中使用的零件。那么,您對超聲波清洗機的單晶硅晶片的方法和裝置設備了解多少呢?關注匯潔機械了解詳情。

超聲波清洗機

  超聲波清洗機的單晶硅片方法及其裝置方法是將清洗后的碎硅片水平放置在清洗槽底部緊靠的石英棒狀框架上,以確保清洗槽的水位高。去離子水和連續流動條件接下來,使用位于清潔槽底部的超聲波振動器進行清潔。超聲波頻率為40KHz。每5分鐘翻轉一次拋光的硅晶片,并繼續進行超清潔,直到沒有黑色污染物從超清潔的拋光硅晶片的表面出現。該裝置中的單晶硅晶片框架的底壁是柵欄形的石英棒,整個框架由支撐腳支撐在清洗槽中。本發明解決了從垂直清洗變為水平清洗后,硅片與超聲源不一樣的問題,污染物容易積聚在硅片的底面上,難以局部清洗,從而消除了清洗難題。聚四氟乙烯材料的使用承載硅片的軟花籃會吸收并阻擋超聲源的傳輸,從而導致未清潔硅片局部表面積的現象。

超聲波清洗機

  以上是有關單晶硅晶片裝置和超聲波清洗機的方法的相關介紹。閱讀本文之后,每個人都可以對這個問題有新的認識。清洗機裝置的單晶硅片,使整個框架由支撐腳支撐,可在罐內進行清洗,有效解決了硅片與超聲源之間的距離不同,污染物易于積聚在容器上的問題。


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